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加熱制冷循環(huán)恒溫器 加熱 制冷系統(tǒng)產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于國內(nèi)外科學(xué)研究和工藝開發(fā)、新能源汽車、生物技術(shù)、醫(yī)藥行業(yè)、航空航天、半導(dǎo)體、醫(yī)療技術(shù)等行業(yè)。

Chiller主要用于半導(dǎo)體制程中對多路反應(yīng)腔室的精準(zhǔn)控溫，裝置由熱交換器、循環(huán)泵、壓縮機(jī)和控制系統(tǒng)構(gòu)成，采用先進(jìn)的控制算法，提高了chiller的穩(wěn)定性、控溫精度和反應(yīng)速度。在帶負(fù)載的情況下控溫精度可達(dá)±0.5℃，可在-20℃~85℃之間任意控溫，有良好的溫度穩(wěn)定性。

半導(dǎo)體制冷冷水機(jī)可以廣泛應(yīng)用于民用和工業(yè)領(lǐng)域，例如醫(yī)院、工廠等場所。主要應(yīng)用于夾套反應(yīng)釜、微通道反應(yīng)器、反應(yīng)裝置、組合化學(xué)等冷熱源動態(tài)恒溫控制以及制藥行業(yè)中的低溫蒸餾、萃取等設(shè)備中。

半導(dǎo)體制冷技術(shù)利用的是半導(dǎo)體材料在電流通過時表現(xiàn)出的熱電效應(yīng)，特別是Peltier effect。當(dāng)電流通過由兩種不同導(dǎo)電性能的半導(dǎo)體材料組成的熱電偶時，會在接觸界面上產(chǎn)生熱量的轉(zhuǎn)移，一側(cè)吸收熱量形成冷端，另一側(cè)釋放熱量形成熱端。

樣品冷熱臺高低溫設(shè)備主要應(yīng)用于高壓反應(yīng)釜、中試生產(chǎn)不銹鋼反應(yīng)釜、雙層玻璃反應(yīng)釜、夾套反應(yīng)釜、微通道反應(yīng)器、反應(yīng)裝置、組合化學(xué)等冷熱源動態(tài)恒溫控制以及制藥行業(yè)中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設(shè)備中。